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常用的固體雜質(zhì)清除系統(tǒng)有哪幾種?

密封介質(zhì)中往往會由于介質(zhì)本身含有固體顆粒、易結(jié)晶、結(jié)焦等性質(zhì)，在一定工作條件下出現(xiàn)固體顆粒，還有些特殊用途泵的密封在系統(tǒng)中有殘渣、鐵銹、污垢。固體顆粒進入密封面間會劃傷密封面;固體雜質(zhì)沉積在動、靜環(huán)輔助密封處會影響密封環(huán)的浮動性，出現(xiàn)“密封擱住”現(xiàn)象;沉積在彈簧處則出現(xiàn)失彈現(xiàn)象。因此，必須設(shè)法清除密封介質(zhì)中的雜質(zhì)。

機封密封沖洗分布裝置應(yīng)做到化地均勻沖洗，冷卻密封端面，對于多噴嘴系統(tǒng)內(nèi)設(shè)6~8個小孔，孔徑3~4m。多點沖洗用在易汽化的介質(zhì)中，也可用在產(chǎn)生摩擦熱較多的高m值場合。沖洗孔位置應(yīng)盡量開設(shè)在摩擦副處，以便更好地把熱量導(dǎo)走。單點沖洗不能直接對準石墨環(huán)(靜環(huán))，KCZ200/400機封，也不能遠離摩擦副，使沖洗作用減弱。

機封進行零下70~80℃的深冷處理，使之轉(zhuǎn)變?yōu)轳R氏體組織、再經(jīng)數(shù)小時800多攝氏度高溫的時效處理，使之沉淀硬化，KCZ150/500機封，析出彌散分布的碳化物和其他金屬間化合物，從而達到強化和硬化的目的。C-276焊接后不需要進行固溶熱處理，加工性能好，KCZ250/325機封，能夠阻止焊接熱影響區(qū)晶界沉淀的形成，可以應(yīng)用于有局部腐蝕和氧化還原介質(zhì)的場合。Incone1718的熱處理工藝過程較為簡單，無深冷處理過程。

在密封端面外徑d2和外徑d4之間的平面受介質(zhì)壓力p1的作用，簡化在上用F1表示;密封端面受有兩個力，一是由介質(zhì)壓力和彈簧比壓組成的端面比壓用F、表示，另個力是液膜壓力用F。表示。F、均勻地作用于密封端面上，其作用點位于密封端面的中心，安陽機封，而F。的作用點半徑大于F的位置。軸向力F1、F，和F通過靜環(huán)加在靜環(huán)的輔助密封圈上，靜環(huán)的反力用W表示。這樣一來靜環(huán)在這些力的共同作用下，由于作用點的差距產(chǎn)生了一個順時針方向的力矩M，促使靜環(huán)端面產(chǎn)生個變形。